集積回路製造のリソグラフィーにおける将来技術であり、現在用いられている紫外線（波長193nm〈ナノメートル〉）に代わり、真空紫外線、極紫外線または軟X線と呼ばれる領域に属する10nm程度の波長の光を使用する。光源として当初はシンクロトロン放射光が使われたが、現在の候補はレーザー生成プラズマや放電生成プラズマとされている。この波長帯においては透過率の良い材料が存在しないため、縮小投影露光の光学系はブラッグ反射鏡を用いた反射型光学系となる。