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ガリウムとヒ素からなる3-5族化合物半導体で、組成式はGaAs。ヒ化ガリウムと表記される。約1.43eVのバンドギャップ(禁制帯幅)を有する直接遷移半導体で、シリコンよりも高い電子移動度を持つため、発光・受光デバイスや高速デバイス用材料として使用される。
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